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Diseñado para realizar tratamientos térmicos en vacío o en atmósferas de gas inerte, reductoras u oxidantes, garantizando un control preciso y estable de la temperatura durante todo el proceso.
Nuestros hornos de tubo de laboratorio están diseñados para proporcionar entornos de calentamiento estables y uniformes que satisfacen una amplia gama de necesidades experimentales. Disponibles en múltiples configuraciones —incluidos modelos de una sola zona, multizona, de tipo dividido y de carga vertical—, estos hornos permiten un control preciso de la temperatura y son adecuados tanto para ensayos de materiales a pequeña escala como para aplicaciones de investigación continua.
Horno tubular de tres zonas con control independiente de la velocidad de alimentación del material y de la rotación del tubo (1-15 rpm). Su diseño de carga manual simplifica el procesamiento por lotes hasta 1200 ℃.
Control de temperatura de tres zonas para perfiles térmicos avanzados Cámara dividida con apertura superior para facilitar el mantenimiento y garantizar un funcionamiento seguro La inclinación y la rotación ajustables garantizan un calentamiento uniforme y un flujo fluido del material Mandos giratorios fáciles de usar, tanto para uso en laboratorio como a escala industrial
Horno de tubo basculante multiestación de alta eficiencia para el procesamiento paralelo de materiales. Cuenta con un diseño de tubo giratorio y de inclinación ajustable que garantiza un tratamiento térmico uniforme. Ideal para la investigación de catalizadores y la síntesis de lotes pequeños.
Combina la investigación de laboratorio con la producción industrial gracias a su sistema de calentamiento independiente en tres zonas y a la rotación e inclinación ajustables. Ideal para la I+D de materiales (gradientes de 300 a 700 ℃) y para un funcionamiento automatizado ininterrumpido.
Horno tubular multizona avanzado con control independiente de la temperatura para la investigación de materiales, que ofrece perfiles de calentamiento personalizables y una distribución térmica uniforme.
Horno tubular CVD profesional multizona con sistema de control de gas integrado, que ofrece una uniformidad de temperatura de ±1 ℃ y un caudal de gas programable para la deposición precisa de películas finas. Ideal para grafeno, recubrimientos semiconductores y síntesis de nanomateriales.
