- +86-13526935931
- gwdlthermo@gwdl.com
Предназначена для проведения термообработки в вакууме, в атмосфере инертного газа, в восстановительной или окислительной среде, обеспечивая точное и стабильное регулирование температуры на протяжении всего процесса.
Наши лабораторные трубчатые печи разработаны для обеспечения стабильных и равномерных условий нагрева, отвечающих широкому спектру экспериментальных задач. Эти печи, доступные в различных конфигурациях — включая однозонные, многозонные, разъемные и модели с вертикальной загрузкой, — обеспечивают точное регулирование температуры и подходят как для мелкосерийных испытаний материалов, так и для непрерывных исследовательских работ.
Трехзональная трубчатая печь с независимым управлением скоростью подачи материала и вращением труб (1–15 об/мин). Конструкция с ручной загрузкой упрощает периодическую обработку при температурах до 1200 °C.
Трехзонный контроль температуры для создания сложных температурных профилей Разделенная камера с открывающейся верхней частью для удобства обслуживания и безопасной эксплуатации Регулируемый наклон и поворот обеспечивают равномерный нагрев и плавный поток материала Удобные поворотные регуляторы для использования как в лабораторных, так и в промышленных условиях
Высокоэффективная многопозиционная печь с наклоняемой трубой для параллельной обработки материалов. Оснащена регулируемым углом наклона и вращающейся трубой, что обеспечивает равномерную термообработку. Идеально подходит для исследований в области катализаторов и синтеза небольших партий.
Сочетание лабораторных исследований и промышленного производства благодаря 3-зонному независимому нагреву и регулируемому вращению/наклону. Идеально подходит для научно-исследовательских работ с материалами (градиенты 300–700 °C) и круглосуточной автоматизированной работы.
Современная многозонная трубчатая печь с независимым регулированием температуры для исследований материалов, отличающаяся настраиваемыми профилями нагрева и равномерным распределением тепла.
Профессиональная многозонная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы (CVD) со встроенной системой управления подачей газа, обеспечивающая равномерность температуры с точностью ±1 °C и программируемый расход газа для точного осаждения тонких пленок. Идеально подходит для получения графена, нанесения полупроводниковых покрытий и синтеза наноматериалов.
