Horno de alto vacío con un nivel de vacío final de 10-⁵ Pa
El horno de alto vacío GWDL alcanza un nivel de vacío final de hasta 10-⁵ Pascal, proporcionando un entorno ultralimpio y libre de oxidación ideal para el procesamiento de materiales sensibles. Diseñado para laboratorios de investigación e industrias de alta tecnología, permite un tratamiento térmico preciso de metales, cerámicas y materiales compuestos que requieren atmósferas libres de contaminación.
Equipado con avanzados sistemas de bombeo de vacío que incluyen bombas turbomoleculares y secas, el horno garantiza una evacuación rápida y un mantenimiento estable del vacío ultraalto. La robusta cámara y los elementos calefactores están optimizados para una distribución uniforme de la temperatura con un control preciso (±1°C), alcanzando temperaturas de hasta 1800°C en función de la configuración.
Este horno admite aplicaciones como recocido de aleaciones, sinterización, soldadura fuerte y deposición de películas finas en condiciones de ultra alto vacío. Su diseño modular permite la integración con sistemas de introducción de gas, bloqueos de carga y refrigeración.
Con "2100℃ de alta temperatura" y "control de temperatura totalmente automático", está equipado con elementos calefactores de lámina de tungsteno emparejados con un revestimiento de horno de pantalla metálica reflectante multicapa, logrando una precisión de control de temperatura/temperatura constante de ±1℃.
El equipo está equipado con una mesa de carga con elevación de husillo y guía de eje óptico, con funciones de rotación y agitación ajustables. Adopta aislamiento térmico de tres capas y refrigeración por aire para la reducción de la temperatura, manteniendo la temperatura de la cáscara ≤45℃. Admite control de temperatura de programa de 30 segmentos y operación remota RS485, con botones duraderos equipados con luces indicadoras.